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超高速智能粒度分析儀的完整測量過程介紹
  • 發布日期:2021-12-17      瀏覽次數:847
    •   超高速智能粒度分析儀采用的計算機技術與激光原理相結合,充分發揮了各自的優勢,使粉體的粒度分析變得快速方便,滿足了粉體行業粒度分析的基本需要。再加上儀器生產廠家廣泛的宣傳(儀器分析快速、,精度高,分析精度0.001μm),因此該儀器得到快速發展和應用。
        一個完整測量過程包括電子背景測量,光學背景測量和對光,加入樣品,開始粒徑測量,完成測量。進入測量過程后,軟件界面的左下方會有對話框指示測量的進程。
        1、測量背景:顆粒區的測量數據,由于受到設備電子背景噪音,測試光路中鏡面灰塵,以及分散介質中的雜質顆粒影響會有一定的偏差。通過“測量背景”能純化粒徑測量,上述的背景信息和數據會從樣品測量數據中減去以得到的數據。
        2、加入樣品:在背景測量結束后,出現加入樣品提示。左方遮光度指示欄直觀地表示測量樣品的數量,遮光度會隨著樣品數量的增加而逐漸增高。在未加入樣品前,右方的測量數據柱狀圖應該是隨機變化,而且柱狀數據條的高度一般不超過5。
        3、開始測量:當遮光度達到測量要求,停止添加樣品后保持穩定(一般意味著樣品顆粒沒有發生溶解或凝聚,樣品顆粒正常穩定分散),同時測量數據窗口顯示穩定的,足夠強度的柱狀數據分布,可以按下“Start”鍵開始測量。
        不同的光學設計(例如直線式光路設計和折疊式光路設計,透鏡后/前傅立葉變換,激光光束大小等),不同尺寸、焦距規格的傅立葉透鏡,不同的探測器數量和分布以及其靈敏度和噪音水平,不同規格的光學部件等都會造成相同顆粒所得到的光能分布的差異。同樣的道理,如果測量儀器光路或光學器件出現了狀態變化也會引起結果的偏差。
    聯系方式
    • 電話

      0756-8629811

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